| データタイトル | 他機関での菌株情報 | 遺伝子型 | 復元液 | データID | 菌株番号 | カタログURL | 生物種名 | 生物種名（著者名含） | 基準株 | 来歴 | 分離源 | 分類 | 培養温度 | 培養培地 | 親株（変異株の場合） | 付加情報 |
|---|
文献情報 特許
| データID | DOPA0000007215267 |
|---|---|
| データタイトル | 特許（ＣＭＰ後洗浄液、洗浄方法及び半導体ウェハの製造方法 （特許7215267）(2023)） |
| URI | |
| タイトル | ＣＭＰ後洗浄液、洗浄方法及び半導体ウェハの製造方法 （特許7215267） |
| 著者または発明者・考案者 | 梅本 彩香 |
| 草野 智博 | |
| 柴田 俊明 | |
| 竹下 寛 | |
| 出版者または出願人・権利者 | 三菱ケミカル株式会社 |
| 刊行物名 | |
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| ページ範囲 | |
| 出版年月日または特許関連日付 | 2023-01-23 |
| DOI | |
| 関連情報 |
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1.微生物株情報
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