| データタイトル | 分類 | 菌株番号 | 基準株 | データID |
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文献情報 特許
| データID |
DOPA0000007215267
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| データタイトル |
特許（ＣＭＰ後洗浄液、洗浄方法及び半導体ウェハの製造方法 （特許7215267）(2023)）
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| URI | |
| タイトル |
ＣＭＰ後洗浄液、洗浄方法及び半導体ウェハの製造方法 （特許7215267）
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| 著者または発明者・考案者 |
梅本 彩香
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草野 智博
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柴田 俊明
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竹下 寛
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| 出版者または出願人・権利者 |
三菱ケミカル株式会社
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| 刊行物名 |
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| ISSN |
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| 巻 |
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| 号 |
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| 開始ページ |
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| 終了ページ |
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| ページ範囲 |
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| 出版年月日または特許関連日付 |
2023-01-23
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| DOI |
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| 関連情報 |
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